Partikelstorleken för släppmedel av hög renhet av kiselnitrid är mellan 1-2 mikron, vilket effektivt kan lösa oxidationsproblemet under högtemperaturhärdningsprocessen av beläggningen, vilket avsevärt förbättrar renheten hos polykristallint kisel och enkristallint kisel, och renheten av dess pulver kan vara Det når mer än 99,99% och kan användas som kvartsdegelbeläggningsmaterial för smältning av polykristallina kiselgöt i solcellsindustrin.
Det kan effektivt förhindra degelns innervägg från att fästa vid det smälta kiselmaterialet, underlätta urtagning av formen och fungera som ett barriärskikt för att säkerställa renheten hos kiselgötet. Produkten har använts av många tillverkare i Jiangxi, Fujian, Jiangsu, Henan, etc., och har utmärkt avformningsprestanda. , och jämfört med nanokiselnitrid eller andra typer av släppmedel har den utmärkta antioxidantegenskaper, vilket säkerställer att koncentrationen av föroreningar som kol och syre effektivt kan kontrolleras under produktionsprocessen.
Produkten har hög renhet, enhetlig partikelstorlek och dess prestanda är helt jämförbar med liknande utländska produkter. Den har massproducerats.
