1. Nitrid ferrokrom med låg kolhalt i en vakuumvärmeugn vid 1150 grader för att erhålla rå ferrokromnitrid, som sedan behandlas med svavelsyra för att avlägsna järnföroreningar. Efter filtrering, tvättning och torkning erhålls kromnitrid. Det kan också erhållas genom reaktion mellan ammoniak och kromhalogenid.
2. Värm högrent elektrolytiskt krompulver vid 1060 grader i 160 timmar i ett kväveflöde av en 150mmHg (1mmHg=133.322Pa) kolonn, töm sedan ut kvävet och släck för att erhålla Cr2N.
3. Krossa ferrokrom med låg kolhalt till<3mm, take 1000kg and nitride it in a vacuum heating furnace at 1150°C and a nitrogen pressure of 0.0987MPa for 24 hours to obtain coarse nitride ferrochromium. After cooling, crush it to <0.3mm, and take 1000kg for nitriding again at 950°C (other conditions are the same as before). After cooling, crush it to <0.3mm, put it into a 1 cubic meter reactor, and treat it with sulfuric acid for 16 hours to remove the iron. Filter, wash and dry. 109kg of chromium nitride was recovered, containing Cr78.6%, N219.6%, O20.80%, Fe0.59%, and C0.13%. It can also be obtained by the reaction of ammonia and chromium halide.
Kromnitrid används ofta som en tunnfilmsbeläggning. Med hög hårdhet och god slitstyrka är det en högt värderad slitstark beläggning. Kromnitridfilmen framställd genom ihålig katodjonplätering har en Cr+Cr2N tvåfasstruktur, en kornstorlek på 20-70nm och en hårdhet på HV22GPa. Efter vakuumglödgning kan den ökas till HV35.4GPa. Dess slitstyrka är bättre än CrC-film. Den reaktiva sputtrande kromnitridfilmen kan erhålla två strukturer, Cr+Cr2N eller enfas CrN, med hårdheter som sträcker sig från HV20 till 25GPa (hårdhet av bulk CrN HV11GPa).
